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三氟化氮
化学式:NF3
纯度规格:5N
主要用途:清洗、刻蚀
主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)、 显示面板
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六氟化钨
化学式:WF6
纯度规格:6N
用途:沉积
主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)
Details 白箭头 黑箭头
氯化氢
化学式:HCl
纯度规格:5N
用途:清洗、刻蚀
主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)
Details 白箭头 黑箭头
氟化氢
化学式:HF
纯度规格:5N
用途:清洗、刻蚀
主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)
Details 白箭头 黑箭头
四氟化硅
化学式:SiF4
纯度规格:5N
用途:沉积
主要应用领域:集成电路(LOGIC)、光纤
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氘气
化学式:D2
纯度规格:5N
用途:热处理、光纤抗老化处理
主要应用领域:集成电路(LOGIC/3D NAND)、光纤
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氦氮混气、氙氢混气、氧氦混气、氪氖混气、氩氙氖混气等
纯度规格:6N
用途:刻蚀、退火、光刻等
主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)、显示面板、光纤
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六氟丁二烯
化学式:C4F6
纯度规格:4N
用途:刻蚀
主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)
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八氟环丁烷
化学式:C4F8
纯度规格:5N
用途:清洗、刻蚀
主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)
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八氟丙烷
化学式:C3F8
纯度规格:5N5
用途:清洗、刻蚀
主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)
Details 白箭头 黑箭头
六氟乙烷
化学式:C2F6
纯度规格:5N
用途:清洗、刻蚀
主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)、光纤
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三氟甲磺酸
CAS No.:1493-13-6
主要用途:医药中间体、催化剂
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