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六氟丁二烯

化学式:C4F6
纯度规格:4N
用途:刻蚀
主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)
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参数

       六氟丁二烯主要应用于大规模集成电路先进制程的刻蚀工艺,与传统刻蚀气体相比,六氟丁二烯刻蚀速率更快、选择性和深宽比更高、环境更友好,在先进制程中应用前景广阔,公司生产的六氟丁二烯产品纯度达4N,产品已进入客户验证阶段。

关键词:
六氟丁二烯
刻蚀
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