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三氟化氮

化学式:NF3
纯度规格:5N
主要用途:清洗、刻蚀
主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)、 显示面板
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产品描述
参数
   高纯三氟化氮主要应用于大规模集成电路和显示面板等制造过程中的清洗、刻蚀工艺,具有良好的选择性、蚀刻速率,纯度一般需要达到4N,公司已实现5N 级三氟化氮的量产,凭借优异的产品品质,多年来稳定供应境内外集成电路和显示面板知名客户,在业内树立了技术领先、产品优质、客户信赖的品牌形象。
关键词:
产品品质
稳定
应用于
三氟化氮
清洗
刻蚀
显示面板
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