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三氟化氮
化学式:NF3
纯度规格:5N
主要用途:清洗、刻蚀
主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)、 显示面板
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六氟化钨
化学式:WF6
纯度规格:6N
用途:沉积
主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)
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